ファーウェイに深刻な人材流出の危機、10年間の努力が水の泡になるおそれも

2020年9月9日 20:00 by shishimaru
カテゴリー モバイル | タグ

4Gでめきめきと頭角を現し、5Gの標準化などに大きく寄与するなど、高い技術力を誇るHuawei。

アメリカによる制裁は、次世代通信技術において技術力が逆転したことによるアメリカの警戒感が背景にあると言っても過言ではありませんが、その根幹を揺るがす事態が起きています。詳細は以下から。


台湾メディア「DIGITIMES」の報道によると、Huawei傘下の半導体企業でスマホやタブレットなどのプロセッサ開発を手がける「Hisilicon(ハイシリコン)」に、現在厳しい人材流出の波が押し寄せているそうです。

アメリカによる一連の制裁を受け、HuaweiとHisiliconは新たなチップセットの研究開発を一時停止させることを余儀なくされており、エンジニアたちは長期の無給休暇を取得中。

台湾勤務のエンジニアは多くが辞任したものの、研究開発チーム自体はすぐに解散しない方針とのこと。しかし頭脳流出は長引くと予想されており、10年かけて人材基盤を拡大しようとしたHuaweiの努力が水の泡となってしまうおそれがあります。

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